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SiCグラフェンを用いた親水化処理における修飾分子依存性
von
杉岡, 賢人
,
谷口, 嘉昭
,
三木, 翼
,
田原, 雅章
,
大野, 恭秀
,
永瀬, 雅夫
,
荒川, 幸弘
,
南川, 慶ニ
,
今田, 泰嗣
,
安澤, 幹人
Veröffentlicht in
応用物理学会学術講演会講演予稿集
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