射出成形 von 加藤, 隆典

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放射光ドライエッチングによるテフロンのマイクロ加工 von 加藤, 隆典

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SR光反応加工 von 加藤, 隆典

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3次元ハイブリッド粒子/流体法によるイオン源プラズマ数値シミュレーション(1) von 宮下, 大, 衞藤, 晴彦, 青木, 康, 加藤, 隆典

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飛来粒子定量分析による反応性プラズマ蒸着Ga添加ZnO薄膜の成膜因子の解明 von 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 野本, 淳一, 牧野, 久雄, 青木, 康, 加藤, 隆典, 山本, 哲也

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電子流体モデルを用いたイオン源内電位分布計算方法の調査 von 宮下, 大, 衞藤, 晴彦, 青木, 康, 加藤, 隆典

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3D-ハイブリッドPIC/MCC法を用いた反応性プラズマ蒸着による膜厚分布の磁場依存性数値シミュレーション von 宮下, 大, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 青木, 康, 加藤, 隆典

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反応性プラズマ蒸着装置における蒸着粒子のイオン化率とエネルギー分布の制御 von 北見, 尚久, 宮下, 大, 酒見, 俊之, 青木, 康, 加藤, 隆典

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RPD成膜における粒子の流束分布の磁場依存性 von 宮下, 大, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 青木, 康, 加藤, 隆典, 荒川, 義博

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3次元ハイブリッドPIC/MC法によるRPD装置内プラズマシミュレーション von 宮下, 大, 北見, 尚久, 酒見, 俊之, 青木, 康, 加藤, 隆典, 荒川, 義博

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TIEGA技術を用いた三次元微細加工 von 加藤, 隆典

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Teflon Micromachining by SR Dry Etching von KATOH, Takanori

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1p-Z-13 InP(100)-p(2×4)表面上のエピタキシャル成長Au層の評価 von 加藤, 隆典, 森田, 健治

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5p-W-15 InP(100)-p(2×4)表面上へのAuのMBE成長 von 加藤, 隆典, 森田, 健治

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3p-B2-4 CaF2結晶における自己捕獲励起子の2重励起効果(イオン結晶・光物性) von 加藤, 隆典, 谷村, 克己, 伊藤, 憲昭

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24a-PS-23 InP(001)-p(2×4)表面上における金属膜の室温MBE成長機構 von 加藤, 隆典, 羽根渕, 昌明, 森田, 健治

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25p-G-12 Au/InP(001)系におけるAu表面および界面の原子構造のRBS : チャネリング解析 von 加藤, 隆典, 羽根渕, 昌明, 森田, 健治

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放射光アブレーションによるポリパラフエニレン薄膜の作製 von 鈴木, 裕之, 中西, 秀和, 加藤, 隆典, 今井, 茂, 河口, 昭義, 中山, 康之, 三木, 秀二郎

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4a-PS-16 InP(001)-p(2x4)表面上へのAuのMBE成長における面心立方格子In層の過渡的生成 von 加藤, 隆典, 羽根渕, 昌明, 森田, 健治

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シンクロトロン放射光誘起反応を用いたテフロンの微細加工及び薄膜形成 von 加藤, 隆典, 張, 延平

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