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Effects of a carbon implant on thermal stability of Ni0.95(Pt0.05)Si
von
冯帅 赵利川 张青竹 杨鹏鹏 唐兆云 闫江 吴次南
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半导体学报:英文版
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A simulation analysis of performance of both implanted doping and in situ doping ETSOI PMOSFETs
von
冯帅 赵利川 张青竹 杨鹏鹏 唐兆云 吴次南 闫江
Veröffentlicht in
Journal of semiconductors
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