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    Interfacial and electrical characteristics of a HfO2/n–InAlAs MOS-capacitor with different dielectric thicknesses

    Interfacial and electrical characteristics of a HfO2/n–InAlAs MOS-capacitor with different dielectric thicknesses von 关赫 吕红亮 郭辉 张义门 张玉明 武利翻

    Veröffentlicht in 中国物理B：英文版

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