疑似南部法を用いたDSMCによる希薄流のマルチフィジックス解析 von 伝宝, 一樹

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疑似南部法の混合ガスへの拡張と応用 von 伝宝, 一樹

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半導体製造真空反応器内の希薄気体流解析技術 von 伝宝, 一樹

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TEOSを用いたSiO2 PECVD反応機構における酸素イオンとラジカルの役割 von 李, 虎, 伝宝, 一樹

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容量結合プラズマのTorrオーダー圧力におけるプラズマ密度の印加周波数依存性 von 伝宝, 一樹, 森田, 靖, 松土, 龍夫

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Computational study on silicon oxide plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process using tetraethoxysilane/oxygen/argon/ helium von Li, Hu, Higuchi, Hisashi, Kawaguchi, Satoru, Satoh, Kohki, Denpoh, Kazuki

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半導体製造装置のプラズマシミュレーション技術 von 伝宝, 一樹

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TEOSを用いたSiO2 PECVD反応モデルの構築と解析 von 李, 虎, 川口, 悟, 樋口, 恒, 伝宝, 一樹, 佐藤, 孝紀

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真空中へ噴出したジェットの分子数束角分布の理論計算 von 南部, 健一, 伝宝, 一樹

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Theoretical Study on the Angular Distribution of Molecular Flux Effusing into a Vacuum von Nanbu, Kenichi, Denpoh, Kazuki

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A PIC-MCC plasma model created on COMSOL Multiphysics von Suzuki, Ayuta, Kawaguchi, Satoru, Matsukuma, Masaaki, Denpoh, Kazuki

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噴流の分子数束角分布に関する実験的研究 von 渡部, 安雄, 南部, 健一, 前田, 学, 傅寶, 一樹, 五十嵐, 三武郎

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Measurement of Angular Distributions of Molecular Flux Effusing into Vacuum von WATANABE, Yasuo, NANBU, Kenichi, MAEDA, Manabu, DENPOH, Kazuki, IGARASHI, Saburo

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