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Influence of the channel electric field distribution on the polarization Coulomb field scattering in In0.18Al0.82N/AIN/GaN heterostructure field-effect transistors
von
于英霞 林兆军 栾崇彪 吕元杰 冯志红 杨铭 王玉堂
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中国物理B:英文版
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The influence of the channel electric field distribution on the polarization Coulomb field scattering in AlN/GaN heterostructure field-effect transistors
von
于英霞 林兆军 吕元杰 冯志红 栾崇彪 杨铭 王玉堂
Veröffentlicht in
Journal of semiconductors
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Iopscience Extra
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Institute Of Physics (Iop) Journals - Heal-Link
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