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Double-GateとTri-Gate構造を用いたFinFETフラッシュメモリ電気特性の比較評価
Veröffentlicht in 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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微細な三角形状トンネル領域を持つFloating-Gate型MOSキャパシタの作製及び電気特性評価
Veröffentlicht in 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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瞬時熱酸化により改善したIPD膜を用いたNOR型Tri-Gateフラッシュメモリの作製及び電気特性評価
Veröffentlicht in 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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n+-poly-Si/PVD-TiNゲートスタックを用いた20nmゲートFinFETの作製および移動度評価
Veröffentlicht in 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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P-081 軽症の糖尿病患者に発症したAspergillus udagawae による気管支アスペルギルス症の1例
Veröffentlicht in 日本医真菌学会総会プログラム・抄録集
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