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磁気輸送シールド型真空アーク蒸着法によるCu配線膜形成の基礎実験
von
宮川, 伸秀
,
南澤, 伸司
,
丸中, 正雄
,
土井, 聡也
,
滝川, 浩史
,
榊原, 建樹
Veröffentlicht in
電気学会論文誌A(基礎・材料・共通部門誌)
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電解銅めっきにおけるPRパルス電流制御による直径4µmビア完全充填
von
林, 太郎
,
竹内, 実
,
岡本, 尚樹
,
齊藤, 丈靖
,
近藤, 和夫
,
横井, 昌幸
,
丸中, 正雄
,
土屋, 貴之
,
文屋, 勝
Veröffentlicht in
マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集
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3
Perfectly via filling electrodeposition of 4µm diameter via due to controlling periodical reverse current
Veröffentlicht in
Proceedings of Microelectronics Symposium
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Zeitschriftentitel
Denki Gakkai Ronbunshi. A, Kiso Zairyå
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Proceedings Of Microelectronics Symposium
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マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集
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メス
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電学論A
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電気学会論文誌. A
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電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌
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電気学会論文誌A
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Schlagworte
Cathodic Arc Deposition
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Cu Film
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Cu 膜
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Cu膜
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プラズマ 磁気 輸送
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プラズマ磁気輸送
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成膜 速度
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成膜速度
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真空 アーク 蒸着
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真空アーク蒸着
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配線
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Elektronische Zeitschriftenbibliothek - Frei Zugängliche E-Journals
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