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MOCVD法によるSiC上へのHfO2膜の堆積とHfO2/SiO2/4H-SiC MOSFETの作製
Veröffentlicht in 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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H(CH3)2Alを用いたMOCVD法によるSiC基板上へのAl2O3膜の形成とAl2O3/SiC MOSFETの電気的特性評価
Veröffentlicht in 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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