ミニマルファブ用ミラー磁場閉じ込めプラズマCVD装置によるジクロロシランガスを用いたシリコン窒化膜形成 von 後藤, 哲也, 小林, 誠二, クオン, タイ, 薮田, 勇気, 須川, 成利, 原, 史朗

Volltext