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    Einfluß von Verunreinigungen von Quarz aif die Reinheit geglühter Halbleiteroberflächen

    Einfluß von Verunreinigungen von Quarz aif die Reinheit geglühter Halbleiteroberflächen von Fränz, I., Langheinrich, W.

    Veröffentlicht 1968
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    Maskierwirkung, Fremdstoffgehalt und Infraotabsorption verschiedener SiO2-Schichten

    Maskierwirkung, Fremdstoffgehalt und Infraotabsorption verschiedener SiO2-Schichten von Fränz, I., Langheinrich, W.

    Veröffentlicht 1968
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