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Einfluß der Halbleiter-Oxid-Grenzschicht auf das Wechselstromverhalten von InSb-MOS-Strukturen im Temperaturbereich von 5K bis 300K von Heime, Axel
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Einfluß der Halbleiter-Oxid-Grenzschichte auf das Wechselstromverhalten von InSb-MOS-Strukturen im Temperaturbereich von 5K bis 300K von Heime, Axel
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Bauelementkorrelierte Substratoptimierung in der III-V-Technologie von Matthes, Harald, Colquhoun, Alexander, Heime, Axel
Veröffentlicht 1986Signatur: Wird geladen …
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Bauelementkorrelierte Substratoptimierung in der III-V-Technologie von Matthes, Harald, Colquhoun, Alexander, Heime, Axel
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Einfluß der Halbleiter-Oxid-Grenzschicht auf das Wechselstromverhalten von InSb-MOS-Strukturen im Temperaturbereich von 5K bis 300K von Heime, Axel
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